Optical Critical Dimension Metrology instrument
光学线宽测量仪
Optical Critical Dimension Metrology instrument
光学线宽测量仪
产品简介
双面套刻测量设备（OVLScan3000A10D系列产品）主要用于双面光刻工艺、混合键合工艺，搭配可见光和IR成像光学系统，可以测量单面和双面的对准偏差。
应用场景：
支持6英寸/8英寸/12英寸衬底，也可根据客户需求定制化开发满足4英寸衬底的测量需求，
可根据客户需求，搭配TSV测量功能。
产品特点
· 高分辨率与低相差红外光学成像系统保证红外图像采集的清晰度
· 高亮度宽光谱光源，可见光及红外光波长自动调节，提高工艺适应性；
· 红外图像信号降噪处理技术及图像自适应聚焦算法，保证量测结果准确性；
· 采用特殊结构及功能的运动控制系统匹配先进封装领域晶圆结构形式；
· 集成SECS/GEM接口，支持APC、EAP的数据信息交互；
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