2015年
2021年
2022年
2023年
2024年
2025年
全自动关键尺寸设备
2015年5月在上海成立
全自动缺陷检测设备
2021年搬入临港科创中心
全自动套刻设备（OVL A10）
2022年 高企及SEMI认证
用于键合及先进封装套刻设备 45nm工艺套刻设备（OVL A100）
2023年上海专精特新认证
28nm工艺套刻设备（OVLA500）
2024年生产制造中心启用
14nm工艺套刻设备(A600) 7nm套刻设备出α机（D385）
起步期
2015-2021年
创始人2006年进入半导体装备行业
从事软件及算法研发工作
发展期
2022-2023年
产品矩阵不断扩充，多型号设备批量出货
持续提升产品性能
扩张期
2024至今
相继突破28nm、14nm套刻设备
跻身国产套刻设备第一梯队
多家头部半导体厂家合作建立
发展历程
专利发明及荣誉
117项公开专利
72篇
授权专利
1篇
授权集成电路布图
10篇
授权软著
行业首个完全知识产权量检测标准
《套刻设备验收标准及验收标准片》已经在6月份成功立项，成为国内半导体量检测行业目前规格相对较高的标准
魅杰作为主导单位，与多家行业主流单位共同完成该标准制定
标准设定后可用于校准设备、验证设备性能，进而大幅降低国产化设备通线门槛
核心团队: 由集成电路、半导体量检测行业经验丰富的首席科学家、算法专家、工艺专家、和管理人员等组成。
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魅杰光电科技（上海）有限公司
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提升“芯”良率，持续“芯”回报